刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件

2022-12-02 14:54:16

“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”近日，我校机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在宇微光学软件有限公司实现成果转化和产业化，填补了国内空白。湖北卫视对此进行了报道。

光刻成像原理图

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。