2022-06-17 20:20:47
全球芯片制造商巨头台积电今天(17日)首次推出采用纳米片电晶体的下一世代先进两纳米制程技术,成为全球第一家率先提供两纳米制程代工服务的晶圆厂,预计2025年开始量产。
台积电北美技术论坛今天于美国加州圣克拉拉市恢复举办实体论坛,为接下来几个月陆续登场的全球技术论坛揭开序幕。
台积电此次在论坛上首度宣布两纳米(N2)技术进展明确时程,指出N2技术自N3大幅往前推进,在相同功耗下,速度增快10%至15%;在相同速度下,功耗也降低25%至30%,开启了高效效能的新纪元。
台积电称,N2将采用纳米片电晶体架构,使效能及功耗效率提升一个世代,协助台积电客户实现下一代产品的创新。除了行动运算的基本版本,N2技术平台也涵盖高效能版本及完备的小晶片整合解决方案。N2预计于2025年开始量产。
台积电总裁魏哲家称,半导体业身处快速变动、高速成长的数字世界,对于运算能力与能源效率的需求较以往增加的更快,为半导体产业开启了前所未有的机会与挑战。在此令人兴奋的转型与成长之际,台积电在技术论坛揭示的创新成果彰显公司的技术领先地位,也代表公司支持客户的承诺。
台积电技术论坛主要的技术焦点还包括支援三纳米(N3)及N3E的TSMC FINFLEX技术,公司称,领先业界的N3技术预计于2022年下半年进入量产,并将搭配创新的TSMC FINFLEX架构,提供晶片设计人员更多灵活性。
台积电称,TSMC FINFLEX技术提供多样化的标准元件选择,鳍结构支援超高效能,也支援最佳功耗效率与电晶体密度,能精准协助客户完成符合其需求的系统单晶片设计,各功能区块采用最优化的鳍结构,支援所需的效能、功耗与面积,同时整合至相同的晶片上。
另外,台积电研发资深副总经理米玉杰在论坛中指出,台积电将于2024年引进高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)曝光机,以协助客户推动创新。因这项设备是艾司摩尔(ASML)最先进的微影设备,英特尔先前曾宣称率先取得设备,预计2025年量产,台积电虽未说明量产时程,但这次首度谈及引进时程,引起关注。
曝光机是半导体先进制程的关键,EUV设备更是荷兰的阿斯麦公司(ASML) 独家生产,市场估计ASML的高数值孔径EUV曝光设备,每套售价高达3亿美元,将只有台积电、三星、英特尔三家大厂是买家,谁先采用备受业界关注。
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